X射線(xiàn)鍍層測厚儀是將X射線(xiàn)照射在樣品上的。強度的衰減將主要是由于材料對樣品的吸收,以及從樣品中反射的第二X射線(xiàn)的強度。測量了涂層等金屬膜的厚度。因為有樣品和X射線(xiàn)輻照對樣品無(wú)接觸只有45-75w,所以不會(huì )造成樣品損傷。同時(shí),測量也可以在10到幾分鐘內完成。
X射線(xiàn)鍍層測厚儀的特征:
1、可測量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度。
2、CCD攝像機可以觀(guān)察和選擇小面積測量涂層的厚度,避免直接接觸或破壞被測物體。
3、擁有鍍層厚度測量和成分分析等250多個(gè)標準樣品。
X射線(xiàn)鍍層測厚儀X射線(xiàn)熒光的物理意義:
X射線(xiàn)是電磁波譜中的某特定波長(cháng)范圍內的電磁波,其特性通常用能量(單位:千電子伏特,keV)和波長(cháng)(單位:鈉米,nm)描述。X射線(xiàn)熒光是原子內產(chǎn)生變化所致的現象。一個(gè)穩定的原子結構由原子核及核外電子組成。這些核外電子圍繞著(zhù)原子核按不同軌道運轉,它們按不同的能量分布在不同的電子殼層:分布在同一殼層的電子具有相同的能量。
當具有高能量的入射(一次)X射線(xiàn)與原子發(fā)生碰撞時(shí),會(huì )打破原子結構的穩定性。處于低能量電子殼層(如:K層)的電子更容易被激發(fā)而從原子中逐放出來(lái),電子的逐放會(huì )導致該電子殼層出現相應的電子空位。這時(shí)處于高能量電子殼層的電子(如:L層)會(huì )躍遷到該低能量電子殼層來(lái)補充相應的電子空位。由于不同電子殼層之間存在著(zhù)能量差距,這些能量上的差以二次X射線(xiàn)的形式釋放出來(lái),不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線(xiàn)具有特定的能量特性。儀器通過(guò)探測不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線(xiàn)具有特定的能量特性,進(jìn)行分析計算得到各鍍層厚度,這一個(gè)過(guò)程就是我們所說(shuō)的X射線(xiàn)鍍層測厚儀。