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主營(yíng)產(chǎn)品:光譜儀,X射線(xiàn)鍍層測厚儀,ROHS十項檢測分析儀,ROHS2.0測試儀,X熒光測厚儀,手持式合金光譜儀,ROHS設備,電鍍鍍層測厚儀,天瑞ROHS檢測儀,鄰苯本甲酸酯測試儀
鋼鐵的元素含量的測試是鋼鐵行業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)控制、質(zhì)量檢驗的傳統測試項目。經(jīng)典的化學(xué)分析方法操作復雜、分析元素單一、分析過(guò)程時(shí)間長(cháng)、消耗對環(huán)境潛在危害的化學(xué)試劑。鋼鐵冶煉爐前同步分析的快速分析需求,直接促使直讀光譜儀的發(fā)明。直讀光譜儀的發(fā)明和改進(jìn)的幾十年來(lái),實(shí)現了現代鋼鐵工業(yè)對鋼鐵的元素含量分析速度快、元素種類(lèi)豐富、成本低、環(huán)境友好等多方面需求,其他元素分析方法從未如此同時(shí)恰好滿(mǎn)足以上需求。目前,直讀光譜儀已是追求產(chǎn)品技術(shù)和質(zhì)量水平的鋼鐵冶煉、加工、整機企業(yè)的必選設備。
性能特點(diǎn)
火花全譜直讀光譜儀OES8000s采用CMOS檢測器全譜測試技術(shù),可測試覆蓋波長(cháng)范圍內的所有譜線(xiàn),配置和補充測試基體、通道、分析程序極為方便。儀器體積小巧,方便維護和實(shí)驗室放置。OES8000s是測試鋼鐵和有色金屬材料元素的通用型儀器,可以滿(mǎn)足包括:Fe基體、Cu基體、Al基體、Ti基體、Pb基體、
Mg基體、Co基體等基體要求,是金屬元素分析的較優(yōu)選擇。
全譜分析技術(shù),方便配置更多基體和元素,方便在用戶(hù)現場(chǎng)補充配置
儀器體積小巧,對實(shí)驗室空間要求低
工作時(shí)間長(cháng),具有優(yōu)異的穩定性和可靠性
樣品測試速度快,單次測試過(guò)程少于40秒
儀器使用和維護簡(jiǎn)單、方便,對人員專(zhuān)業(yè)要求低
原廠(chǎng)安裝分析程序,測試數據準確,適用合金牌號齊全
配置標準化樣品可對儀器進(jìn)行周期性校正
不使用化學(xué)試劑,測試過(guò)程安全、環(huán)保
技術(shù)優(yōu)勢
天瑞直讀光譜儀OES8000s廣泛應用于鋼鐵及有色金屬產(chǎn)品元素分析,快速、準確、穩定、可靠測試幾十種元素,滿(mǎn)足工業(yè)研發(fā)、工藝控制、進(jìn)料檢驗、產(chǎn)品分選多方面檢驗需求,是生產(chǎn)金屬產(chǎn)品的設備。
全譜檢測測試各種金屬和元素
基于CMOS檢測器全譜測試技術(shù),測試各種金屬中元素的譜線(xiàn),方便實(shí)現多基體、多元素的測試。
配置和補充測試基體、通道、分析程序極為方便,方便交貨后在客戶(hù)處補充測試元素、分析程序。
國際頂級供應商提供核心部件
光譜色散元件——光柵由德國Zeiss/法國JY公司制造,保證優(yōu)異的光譜分辨能力
光譜檢測器——CMOS探測器由日本濱松制造,確保譜線(xiàn)檢測靈敏、低噪聲
光室恒溫系統
光室恒溫腔體內配置反饋式加熱裝置和隔溫層,有效保證光室內恒溫。
由此抑制溫度變化下機械件尺寸微弱變化導致的光路漂移。除特殊維護,平時(shí)保養一般不需進(jìn)行描跡。
同時(shí)檢測器工作在恒溫環(huán)境有助于光電轉換性能的穩定。
快速同時(shí)分析鋼鐵、有色金屬材料中多種元素
將已預處理樣品置于樣品臺后,OES8000s可在至多40秒內呈現測試結果。
可根據客戶(hù)需求,測試幾乎所有鋼鐵、有色金屬材料中常見(jiàn)元素含量。
專(zhuān)業(yè)的測試方案
長(cháng)期測試技術(shù)服務(wù)的積淀,天瑞儀器為鋼鐵、有色金屬材料分析用戶(hù)提供成熟的測試方案。
測試方案采用針對材料元素含量分類(lèi)的分析程序,滿(mǎn)足用戶(hù)各類(lèi)常見(jiàn)測試需求。
分析程序由原廠(chǎng)采用國際、國家標準樣品校準,經(jīng)專(zhuān)業(yè)儀器軟件擬合、校正。
用戶(hù)只需采用原廠(chǎng)配置少量標準化樣品即可完成日常維護,不需購買(mǎi)大量制作分析程序的標準樣品。
工作條件
工作溫度:15-30℃
相對濕度:≤70%
電 源:220±5V,單相50Hz,接地電阻<1Ω
實(shí)驗室無(wú)震動(dòng)、粉塵、強電磁干擾、強氣流、腐蝕性氣體
技術(shù)性能及指標
1. 分光室設計
帕邢-龍格結構,羅蘭圓直徑400mm
波長(cháng)范圍140 – 680nm
像素分辨率10pm
恒溫33℃±0.2℃
特殊材質(zhì)鑄造,保證光室形變小
間歇式真空系統,可保證真空泵運行時(shí)間小于5%
2. 凹面光柵
刻線(xiàn)密度3600l/mm
光譜線(xiàn)色散率:1.04 nm/mm
3. 檢測器
高性能線(xiàn)陣CMOS
4. 分析時(shí)間
依樣品種類(lèi)而不同,一般少于40秒
5. 激發(fā)光源
全數字等離子火花光源技術(shù)
高能預燃技術(shù) (HEPS)
頻率100-1000Hz
電流1-80A
6. 激發(fā)臺
3mm樣品臺分析間隙
噴射電極技術(shù)
特殊設計的氣路系統,保證低氬氣消耗
7. 尺寸和重量
高450mm 長(cháng)900mm 寬600 mm
120 kg
8. 功率
大功率1500W
待機功率70W
138-0228-4651
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